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在EACVD(electron-assisted hot filament chemical vapor deposition)金剛石膜沉積系統(tǒng)上制備出了摻硼金剛石厚膜電極,采用循環(huán)伏安法研究了摻硼金剛石厚膜電極和IrO2/Ta2O5鈦涂層電極電化學(xué)性能的差別,結(jié)果表明摻硼金剛石厚膜電極具有比IrO2/Ta2O5鈦涂層電極更寬的電勢窗口(約3.4 V)和更低的背景電流(接近于零)。用所制備的摻硼金剛石厚膜電極和IrO2/Ta2O5鈦涂層電極對比處理高濃度難降解污水,通過測定污水處理過程中化學(xué)需氧量(chemical oxygen demand,COD)的變化、觀察污水處理過程中顏色的變化、處理前后兩電極的SEM照片研究了摻硼金剛石厚膜電極在污水處理中的應(yīng)用,試驗表明摻硼金剛石厚膜電極比IrO2/Ta2O5鈦涂層電極處理污水效率更高、處理高濃度難降解污染物的能力更強,電極更加穩(wěn)定、耐腐蝕性更好,是一種很有應(yīng)用前景的電極。
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