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介紹了雙面光刻對(duì)準(zhǔn)原理及技術(shù)新發(fā)展,表明了不變焦對(duì)準(zhǔn)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。針對(duì)玻璃基片設(shè)計(jì)了十字加方框的對(duì)準(zhǔn)圖樣,經(jīng)重新調(diào)焦,利用基片透明屬性透過基片標(biāo)記觀測(cè)掩模標(biāo)記實(shí)現(xiàn)對(duì)準(zhǔn),不再采用靜態(tài)存儲(chǔ)的掩模數(shù)字圖像作為精對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn),規(guī)避了可能由物鏡側(cè)移帶來的對(duì)準(zhǔn)誤差。最后提供了幾種常用的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖樣,并為了加工操作的便利引入了輔助搜索線。
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